稀土拋光粉種類(lèi)及技術(shù)特性研究分析

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    內(nèi)容提要：稀土拋光粉中，最有害的雜質(zhì)是機(jī)械雜質(zhì)和稀土拋光粉中個(gè)別過(guò)硬的粒子，可能造成機(jī)械損傷，從而在表面上產(chǎn)生劃痕，這些雜質(zhì)包括工藝設(shè)備中的金屬離子，或來(lái)自煅燒時(shí)過(guò)大的氧化物凝聚體。分級(jí)技術(shù)的應(yīng)用也成為近年來(lái)生產(chǎn)稀土拋光粉的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是生產(chǎn)高性能稀土拋光粉的關(guān)鍵技術(shù)，主要是控制稀土拋光粉的粒度。

    2012-2016年中國(guó)稀土熒光粉市場(chǎng)深度評(píng)估及投資前景分析報(bào)告 

    1 稀土拋光粉的種類(lèi) 

    稀土拋光粉的主要成分是CeO2，輔之以氟化物、鐵、石英等雜質(zhì)，根據(jù)生產(chǎn)工藝特點(diǎn)及其中CeO2含量可將鈰基拋光粉分為三大類(lèi)。第一類(lèi)常用的制備工藝是使稀土富集物在固態(tài)下發(fā)生化學(xué)變化，從而轉(zhuǎn)化成機(jī)械和化學(xué)性能均穩(wěn)定的化合物。稀土氧化物含量為40% ～ 70%，含鈰量在30% ～ 65%，粒度為1 ～ 4 um。這種稀土拋光粉價(jià)格相對(duì)便宜，切削力高，應(yīng)用較廣，主要用于陰極射線管、平板玻璃和鏡片的拋光。 

    第二類(lèi)鈰基拋光粉是用化學(xué)沉淀法生產(chǎn)的，所得稀土沉淀經(jīng)煅燒成為穩(wěn)定的氧化物。稀土氧化物含量為80% ～ 100%，含鈰量在40% ～ 80%，粒度為0． 5 ～ 4 um。這類(lèi)稀土拋光粉的優(yōu)點(diǎn)是成分均一，顆粒的尺寸和形狀一致性好，但價(jià)格相對(duì)較高，主要用于光學(xué)玻璃光掩膜和液晶顯示屏的拋光。 

    第三類(lèi)是高鈰拋光粉，用化學(xué)沉淀法生產(chǎn)的，所得稀土沉淀經(jīng)煅燒成為穩(wěn)定的氧化物。稀土氧化物含量大于90%，含鈰量大于99%。拋光時(shí)間長(zhǎng)，顆粒形狀和硬度均勻，拋光表面均一，純度高，因而拋出的表面均一，無(wú)缺陷，無(wú)雜質(zhì)污染，適用于高速拋光，精密光學(xué)儀器器件、光學(xué)鏡頭、半導(dǎo)體元件、液晶顯示器等高性能元件拋光。 

    2 稀土拋光粉的技術(shù)特性 

    對(duì)于一定組份和加工工藝的稀土拋光粉而言，稀土拋光粉的顆粒大小直接決定了拋光速率與所能達(dá)到的光潔度; 顆粒平均尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大，因此，各類(lèi)玻璃的拋光對(duì)拋光粉粒度要求有一定差異性，如平板玻璃和彩電玻殼的表面光潔度要求不高，所用拋光粉粒度要求可以大些( 1 ～ 4 um) ，而光學(xué)玻璃拋光所需拋光粉粒度要求就嚴(yán)些，一般要求粒度分布為亞微米級(jí)。若用聚氨酯高速拋光，對(duì)粒度和懸浮性要求更嚴(yán)，但不是越細(xì)越好，而是細(xì)而均勻。若粒度細(xì)，懸浮性好，則往往是切削力變差。因此，為了得到性能最佳的稀土拋光粉，必須尋求粒度、切削力和懸浮性之間的最佳匹配，確定最佳工藝技術(shù)條件，達(dá)到三者結(jié)合。另外，稀土中氧化鈰純度和非稀土雜質(zhì)含量也影響稀土拋光粉性能，氧化鈰含量使拋光效率增加。 

    稀土拋光粉中，最有害的雜質(zhì)是機(jī)械雜質(zhì)和稀土拋光粉中個(gè)別過(guò)硬的粒子，可能造成機(jī)械損傷，從而在表面上產(chǎn)生劃痕，這些雜質(zhì)包括工藝設(shè)備中的金屬離子，或來(lái)自煅燒時(shí)過(guò)大的氧化物凝聚體。 

    分級(jí)技術(shù)的應(yīng)用也成為近年來(lái)生產(chǎn)稀土拋光粉的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是生產(chǎn)高性能稀土拋光粉的關(guān)鍵技術(shù)，主要是控制稀土拋光粉的粒度。