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應用材料投身3D IC TSV技術研發(fā)

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    看好未來3D IC市場的發(fā)展,應用材料日前宣布將加強投入通孔硅(TSV)技術的研發(fā)。由于包括DDR4、DRAM及通信芯片的尺寸要求微縮、但速度要求更快、功能要求更強大,因此3D IC需求飛速提升,也帶動了TSV技術未來的發(fā)展。應用材料表示,未來除了自身研發(fā)外,還將與其他相關設備廠商合作研發(fā)高整合度、低成本、產(chǎn)品上市時間快速的系統(tǒng)設備。

    應用材料現(xiàn)有12寸晶圓生產(chǎn)系統(tǒng),包括光刻、刻蝕、薄膜沉積及化學機械拋光等系統(tǒng),都可以運用在TSV制程當中。例如Centura Silvia就是一項可以提高效能、降低成本,能夠應用于TSV的刻蝕系統(tǒng)。應用材料目前也正與Semitool合作開發(fā)TSV相關設備。根據(jù)設備廠商組成的EMC-3D協(xié)會預估,每片晶圓的TSV成本為190美元,但應用材料的目標是降低到150美元以下。