2013年微納光學(xué)制造行業(yè)現(xiàn)有技術(shù)水平與特點(diǎn)

中國(guó)產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告網(wǎng)訊：

    微納光學(xué)制造技術(shù)以LIGA 工藝為基礎(chǔ)，主要經(jīng)過(guò)光刻、電鑄和壓印三個(gè)主要工藝步驟。 

    （1）光刻 

    光刻是通過(guò)光刻膠涂布、激光圖形化光刻、曝光、顯影等一系列生產(chǎn)步驟將基版上的特定部分光刻膠除去，在基版表面留下微納結(jié)構(gòu)。光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小到亞微米級(jí)，已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用激光、電子束、離子束等新技術(shù)，成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。 

    微納光學(xué)制造采用光刻技術(shù)在原版上形成微納尺寸的細(xì)微結(jié)構(gòu)，即可展現(xiàn)出各類光學(xué)效果。 

    （2）電鑄 

    電鑄是利用金屬的電解沉積原理來(lái)精確復(fù)制某些復(fù)雜或特殊形狀工件的特種加工方法，主要用來(lái)精確復(fù)制微細(xì)、復(fù)雜和某些難于用其他方法加工的特殊形狀模具及工件。以預(yù)先按所需形狀制成的原模作為陰極，用電鑄材料作為陽(yáng)極，一同放入與陽(yáng)極材料相同的金屬鹽溶液中，在電解作用下，原模表面逐漸沉積出金屬電鑄層，達(dá)到所需的厚度后從溶液中取出，將電鑄層與原模分離，便獲得與原模形狀相對(duì)應(yīng)的金屬?gòu)?fù)制件。

    內(nèi)容選自產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告網(wǎng)發(fā)布的《2013-2017年中國(guó)光學(xué)材料市場(chǎng)運(yùn)行分析及發(fā)展策略研究報(bào)告》 

    微納光學(xué)制造技術(shù)采用電鑄工藝將原版復(fù)制成工作版，即制作工業(yè)化生產(chǎn)所需的模具。 

    （3）壓印 

    本行業(yè)采用微納壓印技術(shù)規(guī)�；�生產(chǎn)微納光學(xué)產(chǎn)品，將電鑄制成的工作版安裝到壓印設(shè)備上，通過(guò)熱壓或冷壓方式在塑料基膜表面壓制形成微納結(jié)構(gòu)。微納壓印設(shè)備主要采用卷對(duì)卷壓印技術(shù)，該技術(shù)提高了微納光學(xué)膜的生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。