2013年我國微納光學制造行業(yè)核心技術水平與發(fā)展趨勢

中國產(chǎn)業(yè)研究報告網(wǎng)訊：

    微納光學制造的核心是光刻技術，而體現(xiàn)一家公司技術水平高低的關鍵是光刻設備的研發(fā)與制造能力。光刻設備包括激光直寫設備和干涉光刻設備兩大類，廣泛用于微納光學制版等高技術領域。

    在光刻設備技術方面，目前面臨的主要問題是：運行速度慢，僅在平面上實現(xiàn)了微納光刻。由于設備制造上的困難，限制了向大幅面發(fā)展的速度。從行業(yè)發(fā)展趨勢來看，大幅面、微尺寸、無接縫的光刻技術是未來行業(yè)發(fā)展的方向。

    在單光束激光直寫設備研制方面，德國海德堡公司單光束直寫設備分辨率大于1um，美國Anvik 公司投影式高速激光刻蝕設備分辨率為5-8um，這兩款設備均為微納光學制造行業(yè)的重要設備。國內(nèi)企業(yè)多數(shù)還集中在普通激光加工領域，分辨率為30um。

    內(nèi)容選自產(chǎn)業(yè)研究報告網(wǎng)發(fā)布的《2013-2017年中國各種光學薄膜市場運行分析及發(fā)展策略研究報告》

    在雙光束干涉光刻設備的研制方面，美國ITW 公司的iScan 僅實現(xiàn)了低分辨率（100dpi，A4 幅面）激光圖像原版高速制造。在國內(nèi)，蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司研制的HoloMakerIII（150mm*150mm）成為國內(nèi)微納光學制造業(yè)的關鍵設備；研制的寬幅紫外DPSSL 高速干涉與直寫混合光刻設備，實現(xiàn)了65 寸大幅面下5080dpi 高分辨率微結構圖形（400nm 線對）的快速（500mm/s）極限制造，運行效率比傳統(tǒng)激光直寫提高數(shù)十倍以上，是行業(yè)內(nèi)較好的指標。